設備用途

    適用于制備金屬薄膜等，可用于科研單位進行新材料、新工藝薄膜研究工作。

設備組成

    該設備主要由金屬源蒸發沉積室、真空排氣系統、真空測量系統、蒸發源、樣品加熱控溫、電控系統、配氣系統等部分組成。

極限真空度：6.6x10^-5Pa；

抽速：從大氣抽至5x10^-4Pa≤30min；

樣品尺寸：Φ80mmx1片；

熱阻蒸發組件：3套；

分子泵系統：1套；

真空計組件：1套；

石英晶體振蕩膜厚監測儀（1個探頭）：1套；

冷卻水循環機及水路組件：1套；

公司：中國科學院沈陽科學儀器股份有限公司 

地址：沈陽市渾南新區新源街1號

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